光刻机英文

用的是荷兰ASML公司的光刻机。以前高精度光刻机行业有ASML和日本两家企业能做，现在顶级的光刻机市场则完全被ASML公司垄断。Intel，三星，台积电他们都是用的ASML的产品。

ABM英文缩写: ABM (Asynchronous Balanced Mode) 中文译名: 异步平衡方式 分 类: IP与多媒体 解 释: 一种用高级数据链路控制（HDLC）控制的数据通信方式。异步是指在两个没有公共时钟的站之间传输数据，平衡是指在两个站之间对等的进行点到点通信，消除了数据链路两端有主站、次站之分的“不平衡性”。=============================== ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。 截止到2005年1月，ABM公司在世界范围售出了300多台（光刻机）曝光机，50多台单独曝光系统。最著名的客户是美国NASA和INTEL以及生产光刻胶的Shipley公司，ABM光刻机在台湾销量第一，超过半数的大学、研究所和部分工厂使用ABM的光刻机，ABM光刻机最主要的特点是机器具有极高的性价比。 ABM总部位于美国硅谷，亚太销售服务、维修中心设于中国香港，公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家代理商。应用领域 电子封装（晶片凸点和晶片级CSP） 光电设备（LEDs，激光二极管，波导阵列） 探测器 （CCD，近/远 红外，实时X射线） MEMS 和MOEMS 设备显示器 （LCDs，聚合体LCD，OLED）适用感光层 适用与各种类型的光刻胶及Dry-film, BCB, Polyimide, SU-8 适用与G, H, I线及深紫外曝光适用基材半导体材料 Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT，LiNbO3, 石英, 玻璃, Flex, Rigid substrates (FR-4, BT-epoxy), Kapton, Metal

光刻photolithography光刻图案photoetch pattern光刻工艺photolithographic process,photolithography technique光刻机mask aligner光刻材料photoetching material